[发明专利]包含用于全息曝光的光致聚合物层和高耐受性涂料层的膜结构有效
| 申请号： | 201880030710.5 | 申请日： | 2018-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110582808B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | S.科斯特罗明;B.赫尔茨贝格;T.勒莱;D.赫内尔;T.费克;H-G.奥韦勒 | 申请（专利权）人： | 科思创德国股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/24044 | 分类号： | G11B7/24044;G03H1/02;B42D25/328 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 邵长准;周齐宏 |
| 地址： | 德国勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包含可固化的保护层C和光致聚合物层B的层结构，一种用于制备该层结构的方法，一种通过使用该层结构制备全息图的方法，一种密封全息介质以及该层结构用于制备全息图的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 用于 全息 曝光 聚合物 耐受 涂料 膜结构 | ||
【主权项】：
1.包含可固化的保护层C和与保护层C至少部分接合的、面状存在的光致聚合物层B的层结构，其特征在于，保护层C包含/nI) 至少一种选自下列的热塑性树脂：M
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