[发明专利]用于评估抗蚀剂显影的方法有效
申请号: | 201880030731.7 | 申请日: | 2018-04-20 |
公开(公告)号: | CN110612483B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 刘鹏 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G06F30/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种方法,包括:获得用于抗蚀剂显影模型的条件集合,所述抗蚀剂显影模型用于模拟抗蚀剂层的抗蚀剂显影过程;和通过硬件计算机系统使用所述条件集合和所述抗蚀剂显影模型来执行所述抗蚀剂显影过程的计算机模拟以获得所述抗蚀剂层的所述显影的特性,其中所述计算机模拟分离地模拟所述抗蚀剂显影过程的不同的特性和某些不同的物理和化学过程。 | ||
搜索关键词: | 用于 评估 抗蚀剂 显影 方法 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:/n获得用于抗蚀剂显影模型的条件集合,所述抗蚀剂显影模型用于模拟抗蚀剂层的抗蚀剂显影过程;和/n通过硬件计算机系统使用所述条件集合和所述抗蚀剂显影模型来执行所述抗蚀剂显影过程的计算机模拟以获得所述抗蚀剂层的所述显影的特性,其中所述计算机模拟被配置成分离地模拟所述抗蚀剂显影过程的特性和某些不同的物理化学过程。/n
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