[发明专利]用于标定光学测量结构的方法

摘要

本发明涉及一种用于标定光学测量结构的方法，该光学测量结构具有播撒有粒子的测量体积(V)并且具有至少两个相机(K1、K2、K3)，借助相机能在不同的观察角度下分别利用由预标定已知的映射函数将测量体积(V)成像，该方法包括步骤：a)借助相机(K1、K2、K3)将测量体积(V)同时成像，用以针对每个相机(K1、K2、K3)分别产生相机图像(I1、I2、I3)。本发明的特征在于具有另外的步骤：b)参照测量体积(V)中的共同的参考平面在使用分别配属的预标定的映射函数的情况下对每个相机图像(I1、I2、I3)进行校正，c)针对至少一对经校正的相机图像(Ir1、Ir2、Ir3)执行二维相关，用以产生相应数量的相关场(C12)，其中，每个相关场(C12)显示长条状成形的相关最大值带，d)针对每个相关场(C12)：d1)将相关最大值带减小到代表该相关最大值带的直线(g12)，d2)获知该代表性的直线(g12)与相关场(C12)的坐标原点的间距(d12)来作为修正值，e)利用所获知的修正值来修正其经校正的相机图像(Ir1、Ir2、Ir3)已在步骤c中被引入相关中的那些相机(K1、K2、K3)的映射函数。

主权项

1.用于标定光学测量结构的方法，所述光学测量结构具有播撒有粒子的测量体积(V)并且具有至少两个相机(K1、K2、K3)，借助所述至少两个相机能在不同的观察角度下分别利用由预标定已知的映射函数将所述测量体积(V)成像，所述方法包括如下步骤：/na)借助所述相机(K1、K2、K3)将所述测量体积(V)同时成像，用以针对每个相机(K1、K2、K3)分别产生相机图像(I