[发明专利]监测使用流体喷雾例如低温流体喷雾的微电子衬底处理的系统和方法有效
| 申请号： | 201880032046.8 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN110621419B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 布伦特·D·施瓦布;赤毛比·姆巴纳索;格雷戈里·P·托梅斯;凯文·罗尔夫;杰弗里·M·劳尔哈斯 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创FSI公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B3/02;C03C19/00;H01J49/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 刘雯鑫;杨林森 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于处理衬底的系统和方法。特别地，用于处理衬底的系统和方法包括用于从微电子衬底的表面去除颗粒的技术。该系统包括：真空处理室；衬底台，其用于将微电子衬底支承在真空处理室内；低温流体供应系统，其可以通过布置在真空处理室内的一个或更多个喷嘴提供流体或者流体混合物，以沿朝着微电子衬底的上表面的方向将流体喷雾注入处理室内；以及过程监测系统，其耦接至真空处理室，并被布置成收集与一个或更多个喷嘴的出口下游的所注入的流体喷雾的至少一个测量属性相对应的流体喷雾数据。 | ||
| 搜索关键词： | 监测 使用 流体 喷雾 例如 低温 微电子 衬底 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理衬底的系统，所述系统包括：/n(a)真空处理室；/n(b)衬底台，其用于将微电子衬底支承在所述真空处理室内；/n(c)低温流体供应系统，其可以通过布置在所述真空处理室内的一个或更多个喷嘴提供加压且冷却的流体或流体混合物，以沿朝着所述微电子衬底的上表面的方向注入流体喷雾；以及/n(d)过程监测系统，其耦接至所述真空处理室，并被布置成收集与在所述一个或更多个喷嘴的出口下游的所注入的流体喷雾的至少一个测量属性相对应的流体喷雾数据。/n
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