[发明专利]光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜及图案形成方法在审
| 申请号： | 201880032121.0 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110637256A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 冈田佳奈;堀内淳矢;牧野岛高史;越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08F22/40;C08L101/02;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光刻用膜形成材料，其包含具有下述式(0)的基团的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 膜形成材料 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种光刻用膜形成材料，其包含具有下述式(0)的基团的化合物，/n
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