[发明专利]自由形式畸变校正有效
| 申请号： | 201880032584.7 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110651227B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。 | ||
| 搜索关键词： | 自由 形式 畸变 校正 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：/n在基板上打印并处理第一层；/n测量所述第一层上的实际特征位置；/n根据所述实际特征位置和所述第一层的设计特征位置创建至少一个畸变模型；/n反演所述至少一个畸变模型以创建至少一个校正模型；以及/n使用所述至少一个校正模型来打印并处理第二层。/n
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