[发明专利]具有不同沟道长度的垂直传输鳍式场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 201880033254.X 申请日: 2018-06-07
公开(公告)号: CN110651365B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 鲍如强;李忠贤;望月省吾;杨振荣 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 吴信刚
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种形成具有不同沟道长度的多个垂直传输鳍式场效应晶体管(VT FinFETs)的方法,包括:在衬底的第一区域上形成垂直鳍和在衬底的第二区域上形成垂直鳍;在衬底的第二区域上的垂直鳍上形成盖块;在衬底的第一区域上形成第一底部源极/漏极,其中第一底部源极/漏极覆盖第一区域上的垂直鳍的下部;去除盖块;以及在衬底的第二区域中形成第二底部源极/漏极,其中第二底部源极/漏极在衬底的表面下方,其中第二底部源极/漏极不覆盖第二区域上的垂直鳍的下部。
搜索关键词: 具有 不同 沟道 长度 垂直 传输 场效应 晶体管
【主权项】:
1.一种形成具有不同沟道长度的多个垂直传输鳍式场效应晶体管(VT FinFETs)的方法,包括:/n在衬底的第一区域上形成垂直鳍,和在衬底的第二区域上形成垂直鳍;/n在衬底的第二区域上的垂直鳍上形成盖块;/n在衬底的第一区域上形成第一底部源极/漏极,其中第一底部源极/漏极覆盖第一区域上的垂直鳍的下部;/n去除盖块;以及/n在衬底的第二区域中形成第二底部源极/漏极,其中第二底部源极/漏极在衬底的表面之下,其中第二底部源极/漏极不覆盖第二区域上的垂直鳍的下部。/n
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