[发明专利]光取向性聚合物、粘合剂组合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置有效
| 申请号： | 201880033280.2 | 申请日： | 2018-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN110637038B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 田村显夫;犬岛玲子;饭泉隆史;野副宽;西川秀幸;中川一茂;渥美匡广 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/10 | 分类号： | C08F20/10;C08F220/28;C08F220/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种涂布性优异、能够抑制膜厚不均匀、形成为层之后上层涂布性优异、液晶取向性也良好的光取向性聚合物、粘合剂组合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。本发明的光取向性聚合物为具有重复单元A的光取向性聚合物，所述重复单元A包含通过选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用进行分解而产生极性基团的裂解基团，重复单元A在侧链上具有裂解基团，并且，在侧链的比裂解基团更靠末端侧具有氟原子或硅原子，所述光取向性聚合物满足以下所示的条件1或条件2。条件1：除了重复单元A以外，还具有包含光取向性基团的重复单元B。条件2：重复单元A在侧链的比裂解基团更靠主链侧包含光取向性基团。 | ||
| 搜索关键词： | 向性 聚合物 粘合剂 组合 光学 层叠 制造 方法 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种光取向性聚合物，其具有重复单元A，所述重复单元A包含通过选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少一种的作用进行分解而产生极性基团的裂解基团，/n所述重复单元A在侧链上具有所述裂解基团，并且，在所述侧链的比所述裂解基团更靠末端侧具有氟原子或硅原子，/n所述光取向性聚合物满足以下所示的条件1或条件2，/n条件1：除了所述重复单元A以外，还具有包含光取向性基团的重复单元B，/n条件2：所述重复单元A在所述侧链的比所述裂解基团更靠主链侧包含光取向性基团。/n
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