[发明专利]无源Q开关脉冲激光装置、处理设备和医疗设备有效
| 申请号： | 201880034188.8 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110741516B | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 鎌田将尚;水村澄人 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | H01S3/113 | 分类号： | H01S3/113;A61B18/20;H01S3/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | [概述][要解决的问题]为了在抑制脉冲激光的脉冲宽度的增加和脉冲激光的峰值强度的减小时产生具有稳定的偏振方向的脉冲激光，并且在使用非晶材料作为激光介质的基材的情况下使光谐振器和激光装置小型化。[解决方案]本发明提供一种无源Q开关脉冲激光装置，包括：激光介质和可饱和吸收体。所述激光介质设置在包括在光谐振器中的一对反射装置之间。所述激光介质被特定的激发光激发而发出发射光。所述可饱和吸收体设置在所述光谐振器的光轴上，并且在一对反射装置之间的激光介质的下游侧上。所述可饱和吸收体具有通过吸收所述发射光而增加的透射率。所述一对反射装置中的至少一个是偏振元件。所述偏振元件相对于在彼此正交的偏振方向上的发射光具有不同的反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 无源 开关 脉冲 激光 装置 处理 设备 医疗 | ||
【主权项】：
1.一种无源Q开关脉冲激光装置，包括：/n激光介质，设置在构成光谐振器的一对反射装置之间，所述激光介质被特定的激发光激发而发出发射光；和/n可饱和吸收体，设置在所述光谐振器的光轴上，并且在所述一对反射装置之间的所述激光介质的下游侧上，所述可饱和吸收体伴随着所述发射光的吸收而透射率增加，/n所述一对反射装置中的至少一个是偏振元件，所述偏振元件相对于彼此正交的偏振方向上的发射光具有各自不同的反射率。/n
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