[发明专利]用于极快速信号清除的可调整样本底面在审
| 申请号： | 201880034393.4 | 申请日： | 2018-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN110678730A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 蕾芙·C·萨墨菲尔德;布拉克·梅尔 | 申请（专利权）人： | 元素科学雷射公司 |
| 主分类号： | G01N1/36 | 分类号： | G01N1/36 |
| 代理公司： | 11408 北京寰华知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何尤玉;郭仁建 |
| 地址： | 美国内布*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了用于极快速信号清除的可调整样本底面的系统和方法。在一个实施例中，被配置成可调整地支撑样本腔内的目标的目标支撑件可以包含：支撑架，所述支撑架可以被配置成插入到所述样本腔中；支撑平台，所述支撑平台可以安置在所述支撑架内；以及平台调整系统，所述平台调整系统可以耦接到所述支撑架和所述支撑平台。所述平台调整系统可以被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被插入到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑架 支撑平台 平台调整 样本腔 可调整 配置 快速信号 支撑件 成对 样本 安置 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种目标支撑件，所述目标支撑件被配置成可调整地支撑样本腔内的目标，所述目标支撑件包括：/n支撑架，所述支撑架被配置成插入到所述样本腔中；/n支撑平台，所述支撑平台安置在所述支撑架内；以及/n平台调整系统，所述平台调整系统耦接到所述支撑架和所述支撑平台，其中所述平台调整系统被配置成对以下中的至少一个进行调整：当所述支撑架被插入到所述样本腔中时，所述支撑平台相对于所述支撑架的位置和朝向。/n
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