[发明专利]等离子体反应器、等离子体处理工件的方法有效
| 申请号： | 201880034861.8 | 申请日： | 2018-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN110710056B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 梁奇伟;斯里尼瓦斯·D·内曼尼 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01Q9/40 | 分类号： | H01Q9/40;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子体反应器包括腔室主体、气体分配口、工件支撑件、天线阵列、和AC功率源，腔室主体具有提供等离子体腔室的内部空间，气体分配口用于将处理气体输送到等离子体腔室，工件支撑件用于保持工件，天线阵列包括部分延伸到等离子体腔室中的多个单极天线，AC功率源用于将第一AC功率供应到多个单极天线。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应器 处理 工件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体反应器，包括：/n腔室主体，所述腔室主体具有提供等离子体腔室的内部空间；/n气体分配口，所述气体分配口用于将处理气体输送到所述等离子体腔室；/n工件支撑件，所述工件支撑件用于保持工件；/n天线阵列，所述天线阵列包括部分延伸到所述等离子体腔室中的多个单极天线；和/nAC功率源，所述AC功率源用于将第一AC功率供应到所述多个单极天线。/n
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