[发明专利]用于以介电阻挡方式进行等离子体处理的电极装置有效
| 申请号： | 201880035307.1 | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN110692284B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 迪尔克·万德克;米尔科·哈恩;里昂哈德·图尔蒂格;卡尔-奥托·施托克;梅拉妮·里克 | 申请（专利权）人： | 奇诺格有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;A61N1/44;A61L2/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 丁永凡;张春水 |
| 地址： | 德国杜*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对物体的表面以介电阻挡方式进行等离子体处理的电极装置，所述电极装置具有至少一个柔性的、面状的电极(1)和由面状的、柔性的第一材料构成的电介质(2)，所述电介质借助于阻碍直接的电流流动的层(3)保护电极(1)免受待处理的表面影响。所述电介质(2)能够经由具有突出部(7)的结构(4)放置在所述待处理的表面上，其中在所述突出部(7)之间构成用来构成等离子体的空气腔(5)，所述空气腔具有朝向待处理的表面敞开的侧和通过电介质(2)的阻碍直接的电流流动的层(3)形成的底部侧的封闭部。所述结构(4)具有大量由第二材料构成的间隔元件(6)，所述第二材料的柔性小于第一材料的柔性，并且结构(4)的突出部(7)部分地或者完全地通过间隔元件(6)形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 阻挡 方式 进行 等离子体 处理 电极 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于对物体的表面以介电阻挡方式进行等离子体处理的电极装置，具有至少一个柔性的、面状的电极(1)和由面状的、柔性的第一材料构成的电介质(2)，所述电介质借助于阻碍直接的电流流动的层(3)保护所述电极(1)免受所述待处理的表面影响，其中所述电介质(2)能够经由具有突出部(7)的结构(4)放置在所述待处理的表面上，并且在此在所述突出部(7)之间构成用来构成等离子体的空气腔(5)，所述空气腔具有朝向所述待处理的表面敞开的侧和通过所述电介质(2)的阻碍直接的电流流动的层(3)形成的底部侧的封闭部，其特征在于，所述结构(4)具有由第二材料构成的多个间隔元件(6)，所述第二材料的柔性小于所述第一材料的柔性，其中所述结构(4)的突出部(7)部分地或者完全地通过所述间隔元件(6)形成。/n
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