[发明专利]辐射源有效
| 申请号： | 201880035555.6 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN110692283B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | H·M·米尔德;M·A·范德柯克霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;H01S3/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种辐射源，包括：燃料发射器，所述燃料发射器被配置成将燃料液滴提供给等离子体形成区域；和激光器系统，所述激光器系统被配置为提供激光束；其中所述激光器系统包括延迟线路，所述延迟线路被配置为相对于所述激光束的次要部分延迟所述激光束的主要部分，使得所述激光束的次要部分的脉冲在所述激光束的主要部分的脉冲之前入射在所述等离子体形成区域。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
1.一种辐射源，包括：/n燃料发射器，所述燃料发射器被配置成将燃料液滴提供给等离子体形成区域；和/n激光器系统，所述激光器系统被配置为提供激光束；其中/n所述激光器系统包括延迟线路，所述延迟线路被配置为相对于所述激光束的次要部分延迟所述激光束的主要部分，使得所述激光束的所述次要部分的脉冲在所述激光束的所述主要部分的脉冲之前入射在所述等离子体形成区域。/n
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