[发明专利]用于微光刻的投射曝光方法与投射曝光装置有效
| 申请号： | 201880035820.0 | 申请日： | 2018-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110692019B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | A.沃尔夫 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在用以在投射曝光装置的操作控制系统的控制下以掩模的图案的至少一个像曝光辐射敏感基板的投射曝光方法中，在投射镜头的协助下将位于照明区域中的图案的一部分投射至在基板上的像场上，其中有助于像场中的像产生的投射辐射的所有射线形成投射光束路径。通过致动操纵器来影响投射辐射的波前，该操纵器具有配置在投射光束路径中的操纵器表面及用以可逆地改变操纵器表面的光学效果的致动装置。致动装置的操纵值变化由操作控制系统基于一控制程序来决定，其中控制程序具有优化目标函数的校正算法。用于至少一个操纵器的目标函数包含远心敏感度，其描述在操纵器的定义的操纵值变化与可因此实现的对像场中的投射辐射的远心度的影响之间的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微光 投射 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在投射曝光装置的操作控制系统的控制下以掩模的图案的至少一个像来曝光辐射敏感基板的投射曝光方法，包含以下步骤：/n将该掩模保持在该投射曝光装置的照明系统与投射镜头之间，使得该图案配置在该投射镜头的物面的区域中；/n保持该基板使得该基板的辐射敏感表面配置在该投射镜头的像面的区域中，该像面与该物面光学共轭；/n以由该照明系统所提供的照明辐射照明该掩模的照明区域；/n在该投射镜头的协助下将位于该照明区域中的图案的部分投射至在该基板上的像场上，其中促使该像场中的图像产生的投射辐射的所有射线形成投射光束路径；/n通过致动操纵器来影响该投射辐射的波前，该操纵器具有配置在该投射光束路径中的操纵器表面和用以可逆地改变该操纵器表面的光学效果的致动装置；/n其中该操作控制系统基于控制程序决定该致动装置的操纵值变化，其中该控制程序具有优化目标函数的校正算法，/n其特征在于：/n用于至少一个操纵器的目标函数包含远心敏感度，其中该远心敏感度描述在该操纵器处的定义的操纵值变化与因此可实现的对该像场中的该投射辐射的远心度的影响之间的关系。/n
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