[发明专利]含有含金属氧化物层的器件在审
| 申请号： | 201880035901.0 | 申请日： | 2018-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN110998438A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | J·施泰格尔;A·梅尔库洛夫;R·安泽尔曼;G·伦纳 | 申请（专利权）人： | 赢创运营有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L51/52;H05B33/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及用于制备器件的方法，所述方法包括：在第一电极的顶部上形成第一层，所述层包含金属氧化物，该金属氧化物通过沉积金属氧化物前体组合物形成，所述金属氧化物前体组合物可借助于暴露至电磁辐射来直接图案化，以形成图案化的金属氧化物层；任选地在所述第一器件层上形成第二电极，其中所述方法进一步包括任选地在所述第一层的顶部上或在形成所述第一层之后形成包含量子点的层；本发明还涉及通过本发明的方法制备的包含第一层的器件，所述第一层包含金属氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 金属 氧化物 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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