[发明专利]漂移模式和减速模式下具备束角控制的离子注入系统有效
| 申请号： | 201880036357.1 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN110678954B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 伯·范德伯格;爱德华·艾伊斯勒 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/244;H01J37/05 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 刘新宇;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种离子注入系统具有形成离子束的离子源。质量分析器沿射束路径限定并改变经质量分析的射束。可动质量解析孔径组件具有解析孔径，响应于质量分析器改变射束路径而选择性改变该解析孔径的位置。定位的偏转减速元件选择性偏转射束路径并选择性使经质量分析的射束减速。控制器在漂移模式和减速模式下选择性操作离子注入系统。控制器在漂移模式下使经质量分析的射束沿第一路径穿过解析孔径而不会发生偏转或减速，而在减速模式下使射束沿第二路径偏转并减速。选择性改变解析孔径的位置是基于穿过质量分析器和偏转减速元件的射束路径变化。 | ||
| 搜索关键词： | 漂移 模式 减速 具备 控制 离子 注入 系统 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入系统，该离子注入系统包括：/n离子源，其配置成形成离子束；/n质量分析器，其配置成从所述离子束中选择性分离具有预定荷质比的离子，其中沿射束路径限定经质量分析的射束，其中，所述质量分析器配置成选择性改变射束路径；/n可动质量解析孔径组件，其解析孔径配置成允许选定粒种的经质量分析的射束从中穿过，且其中，所述可动质量解析孔径组件配置成响应于质量分析器选择性改变射束路径的而选择性改变所述解析孔径的位置；/n偏转减速元件，其定位于所述可动质量解析孔径组件下游并配置成选择性改变从中穿过的射束路径，其中，所述偏转减速元件进一步配置成选择性使经质量分析的射束减速；及/n控制器，其配置成控制所述离子源、所述质量分析器、所述可动质量解析孔径组件和所述偏转减速元件，以在漂移模式和减速模式下选择性操作所述离子注入系统，其中，在漂移模式下，所述控制器配置成控制射束路径以使经质量分析的射束沿第一路径穿过所述解析孔径而不经由所述偏转减速元件使经质量分析的射束偏转或减速，其中，在减速模式下，所述控制器配置成控制射束路径以使经质量分析的射束沿第二路径穿过所述解析孔径并经由所述偏转减速元件使经质量分析的射束沿第二路径选择性偏转并减速，其中，所述第二路径不同于所述第一路径，且其中，选择性改变所述解析孔径的位置是基于选择性改变穿过所述质量分析器和所述偏转减速元件的射束路径。/n
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