[发明专利]有机EL显示装置用相位差片、有机EL显示装置及相位差片的制造方法在审
| 申请号： | 201880036417.X | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110691999A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 森岛慎一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;H01L51/50;H05B33/02;C08F222/20;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王灵菇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种耐光性优异的有机EL显示装置用相位差片、有机EL显示装置及相位差片的制造方法。本发明的有机EL显示装置用相位差片具有使用含有共聚物的组合物而形成的相位差层，该共聚物具有包含光取向性基团的重复单元A和包含可以显现逆波长色散性的双折射的部位的重复单元B这两者，光取向性基团包含C＝C或C＝N的双键结构。 | ||
| 搜索关键词： | 有机EL显示装置 相位差片 光取向性基团 共聚物 波长色散性 双键结构 相位差层 耐光性 双折射 制造 | ||
【主权项】：
1.一种有机EL显示装置用相位差片，其具有：/n使用含有共聚物的组合物而形成的相位差层，所述共聚物具有包含光取向性基团的重复单元A和包含可以显现逆波长色散性的双折射的部位的重复单元B这两者，/n所述光取向性基团包含C＝C或C＝N的双键结构。/n
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