[发明专利]光谱仪在审
| 申请号： | 201880038521.2 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110753834A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·弗雷德里奇 | 申请（专利权）人： | 安瓦约有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G01J3/18;G02B5/18 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何月华 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光谱仪，所述光谱仪包括：壳体(11)，所述壳体(11)配置有：平面光栅(2)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准；物镜装置(6)；以及传感器元件(7)。所述孔(1)的尺寸被设计成使得平行于所述孔(1)的法线入射的电磁辐射完全辐射所述光栅(2)的表面。所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，以便将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，使得仅将所述电磁辐射的通过所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级衍射朝向所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)定向。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器元件 电磁辐射 光栅 物镜装置 壳体 衍射 法线 光谱仪 平面光栅 角度对准 第一级 入射 平行 聚焦 辐射 配置 | ||
【主权项】：
1.一种具有壳体(11)的光谱仪，其中，/n布置有平面光栅(2)、物镜装置(6)和传感器元件(7)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准，其中，/n所述孔(1)的尺寸被设计成使得在电磁辐射平行于所述孔(1)的法线入射的情况下，所述光栅(2)的表面被完全辐射，其中，/n为了将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，使得：/n仅将所述电磁辐射的由所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级的衍射定向至所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)上。/n
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