[发明专利]使用倍频干涉光刻的线栅偏振器制造方法在审
| 申请号： | 201880038858.3 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110770614A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 建峰·陈;克里斯托弗·丹尼斯·本彻;D·马克莱 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开整体涉及用于使用Markle‑Dyson曝光系统和双重显影(DTD)倍频制造线栅偏振器(WGP)的方法和系统。在一个实施方式中，所述方法包括：将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；使用Markle‑Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；以及将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中以制造具有例如小于或等于约100nm的更精细的间距和增大的频率的WGP。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶图案 光刻胶层 衬底 涂覆 显影 显示器 曝光系统 栅偏振器 图案化 增大的 制造线 倍频 沉积 精细 制造 | ||
【主权项】：
1.一种线栅偏振器制造方法，包括：/n将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；/n使用Markle-Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；以及/n将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中。/n
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