[发明专利]放射性卤素标记化合物的制造方法及放射性医药的制造方法在审
| 申请号： | 201880040465.6 | 申请日： | 2018-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110809575A | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 奥村侑纪;中村大作;桐生真登;市川浩章;殿谷豪太;杉本尚美 | 申请（专利权）人： | 日本医事物理股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D403/14 | 分类号： | C07D403/14;A61K51/04;C07D233/91;C07B59/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;焦成美 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供放射性卤素标记化合物的制造方法，其包含以下的工序：通过对于具备有可利用放射性卤化物离子(X |
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| 搜索关键词： | 放射性 卤素 标记 化合物 制造 方法 医药 | ||
【主权项】：
暂无信息
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