[发明专利]具有用于改善耐久性的纳米叠层的光学涂层在审
| 申请号： | 201880041607.0 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN110914720A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | T·布卢克;G·萨拉夫;J·C·亨特;C·黄;P·R·M·约翰逊;J·H·崔 | 申请（专利权）人： | 因特瓦克公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/14;G02B1/18;C03C17/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 彭丽丹;过晓东 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学涂层，例如抗反射涂层(ARC)或用于光学设备的有色涂层，特别适合于移动设备。ARC由低折射率和高折射率的交替层构成。这些层中的至少一个层，优选顶层，由纳米叠层构成。所述纳米层叠是交替的纳米层的结构，每个纳米层由具有与其所替换的层类似的折射率的材料制成。任选地，这些层中的每一个层由纳米叠层构成，使得具有低折射率的层由具有低折射率的纳米层的纳米叠层构成，而高折射率层由具有高折射率的纳米层的纳米叠层构成。每个纳米层都为2‑10nm厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 改善 耐久性 纳米 光学 涂层 | ||
【主权项】：
暂无信息
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