[发明专利]使有机钼化合物在基油中的分散性长期稳定化的方法有效
| 申请号： | 201880042172.1 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110799632B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 松仓范佳;胜野瑛自;角太朗 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C10M135/18 | 分类号： | C10M135/18;C10M139/00;C10M169/04;C10M101/02;C10N10/12;C10N30/04;C10N30/06;C10N40/25 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明的使低温范围中的有机钼化合物在基油中的分散性长期稳定化的方法,其特征在于,通过将在基油中以钼含量为200～1,000质量ppm的范围内混合了由下述通式(1)表示的有机钼化合物而成的混合物搅拌升温至98～150℃的温度范围，从而使上述有机钼化合物分散在基油中，式中,R |
||
| 搜索关键词： | 有机 化合物 中的 分散性 长期 稳定 方法 | ||
【主权项】：
1.使低温范围中的有机钼化合物在基油中的分散性长期稳定化的方法,其特征在于,通过将在基油中以钼含量为200～1,000质量ppm的范围内混合了由下述通式(1)表示的有机钼化合物而成的混合物搅拌并升温至98～150℃的温度范围，从而使所述有机钼化合物分散在基油中：/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ADEKA，未经株式会社ADEKA许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880042172.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
