[发明专利]有源矩阵基板、显示装置、以及有源矩阵基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880042776.6 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN110800035B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 伊奈惠一;海濑泰佳 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1333;G02F1/1343;G04G17/00;G02F1/1368
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 王娟
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 降低与包含显示区域的绕过部的源极线对应的部分的显示图像的品质的下降。以绕过开口区域(A1)的方式在绝缘基板(1)上,延伸设置互相交叉的栅极线(20)与源极线(30)。在内非显示区域(A2),以在俯视下与源极线(30)的源极绕过部(31)重叠的方式,作为下遮蔽电极(23)而设置分离部(24)。
搜索关键词: 有源 矩阵 显示装置 以及 制造 方法
【主权项】:
1.一种有源矩阵基板,其特征在于,包括:/n基板,设定了开口区域、所述开口区域的外侧的内非显示区域、以及所述内非显示区域的外侧的显示区域;/n多条栅极线以及与所述栅极线相交的多条源极线,以绕过所述开口区域的方式在所述基板上延伸设置;以及/n多个像素电极,以与仅所述显示区域中的所述栅极线和所述源极线的交点对应的方式,设置在所述基板上的所述显示区域;其中/n所述源极线的一部分或者全部包含通过所述内非显示区域的源极绕过部;/n还包括遮蔽电极,所述遮蔽电极以在俯视下与所述源极绕过部的一部分或者全部重叠的方式,设置在所述基板上的所述内非显示区域。/n
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