[发明专利]用于偏振光罩检验的方法及设备有效
| 申请号： | 201880044022.4 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN110832307B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 黄海峰;石瑞芳;D·卡瓦门;A·柯尔克 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示用于测量及控制半导体样本的检验的偏振的方法及设备。所述方法包含：(i)在特定操作模式中设置检验系统；(ii)通过多次旋转递增所述系统的第一波片，同时使所述系统的第二波片保持静止；(iii)对于所述第一波片的每次旋转，从所述样本的非图案化区域测量强度信号；(iv)通过多次旋转递增所述第二波片，同时使所述第一波片保持静止；(v)对于所述第二波片的每次旋转，从所述样本的非图案化区域测量强度信号；(vi)生成所述系统的多个偏振及波片参数的模型以模拟对于所述第一波片及/或所述第二波片的每次旋转所测量的所述强度信号；及(vii)基于所述模型来确定所述系统的所述偏振及波片参数且基于所述偏振及波片参数来确定光掩模平面上的偏振状态。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 偏振光 检验 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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