[发明专利]通过边缘位置误差预测设计布局图案邻近校正有效
| 申请号： | 201880044397.0 | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN110832400B | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 穆罕默德·德里亚·特泰克;萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼;安德鲁·D·贝利三世;理查德·怀斯 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/72 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了为待在蚀刻操作中使用的光致抗蚀剂产生邻近校正设计布局的方法。所述方法可以包括识别初始设计布局中的特征，以及估计在蚀刻工艺期间在所述特征内的特征内等离子体通量(IFPF)的一个或多个数量特性。所述方法还可以包括通过将所述IFPF的所述一个或多个估计的数量特性与查找表(LUT，和/或通过用所述LUT训练的多变量模型的应用，例如通过机器学习方法(MLM)构建的)中的那些进行比较来估计所述特征的边缘放置误差(EPE)的数量特性，所述LUT将所述EPE的数量特性的值与所述IFPF的所述一个或多个数量特性的值相关联。此后，根据EPE的所所确定的数量特性修正所述初始设计布局。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 边缘 位置 误差 预测 设计 布局 图案 邻近 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880044397.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
