[发明专利]确定周期性结构的边缘粗糙度参数有效
| 申请号： | 201880044452.6 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110832401B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | T·J·克嫩;S·B·罗博尔;S·J·比杰尔斯马 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在一种确定周期性结构的边缘粗糙度参数的方法中，在检测设备中该周期性结构被照射(602)。照射辐射束可包括具有在1纳米至100纳米的范围内的波长的辐射。从辐射束获得散射信号(604)，该辐射束从该周期性结构散射。该散射信号包括散射强度信号，其通过检测该检测设备中的远场衍射图案的图像而获得。基于围绕非镜面衍射阶的该散射强度信号的分布来确定(606)边缘粗糙度参数，诸如线边缘粗糙度和/或线宽粗糙度。该确定可例如使用峰加宽模型来完成。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 周期性 结构 边缘 粗糙 参数 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880044452.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
