[发明专利]用于场发射装置的一种场发射阴极结构有效
| 申请号： | 201880044577.9 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110832616B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 乔纳斯·迪伦;帕特里克·霍尔曼;希尔米沃尔坎·德米尔;维杰库玛尔·萨尔玛;西蒂·谭 | 申请（专利权）人： | 光学实验室公司（瑞典）;南洋理工大学 |
| 主分类号： | H01J63/02 | 分类号： | H01J63/02;H01J1/304;H01J7/18;H01J63/06;H01L23/26;B81B7/02;H01J9/02;H01J61/30 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 刘晓春 |
| 地址： | 瑞典乌普*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明总的来说涉及用于场发射装置的一种场发射阴极结构，特别适于通过在场发射阴极结构的透气部分下侧布置吸气剂元件来增强场发射装置的可靠性并延长场发射装置的寿命。本发明还涉及包括这种场发射阴极结构的场发射照明装置和场发射照明系统。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 发射 装置 一种 阴极 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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