[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201880045116.3 | 申请日： | 2018-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN110869852A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 绪方裕斗;臼井友辉;远藤雅久;岸冈高广 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马妮楠;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元的共聚物和溶剂。(在上述式中，X表示碳原子数2～10的二价链状烃基，该二价链状烃基可以在主链具有至少1个硫原子或氧原子，此外可以具有至少1个羟基作为取代基，R表示碳原子数1～10的链状烃基，2个n分别表示0或1。) |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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