[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201880045648.7 申请日: 2018-07-06
公开(公告)号: CN110870079A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 杉本雅裕;高桥勲;神原仁志;四戸孝;人罗俊实 申请(专利权)人: 株式会社FLOSFIA
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/04;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/47;H01L29/861;H01L29/868
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 刁兴利;康泉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种特别对功率器件有用的半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,至少具备半导体区域和设置在该半导体区域上的势垒电极,在所述半导体区域与所述势垒电极之间设置有势垒高度调整区域,与所述半导体区域与所述势垒电极的界面中的势垒高度相比,所述势垒高度调整区域与所述势垒电极之间的势垒高度更大,在所述半导体区域表面嵌入有多个所述势垒高度调整区域。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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