[发明专利]用于至少在流化床气化工艺下游的气体的后处理的后处理布置和方法以及逻辑单元和用途在审

专利信息
申请号: 201880045702.8 申请日: 2018-06-08
公开(公告)号: CN111201307A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: R·亚伯拉罕;D·帕沃内;D·托波罗夫;H·帕莫夫斯基 申请(专利权)人: 多元伙伴公司
主分类号: C10J3/54 分类号: C10J3/54
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 王永伟
地址: 荷兰,*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于至少在流化床气化工艺下游,尤其在承压流化床气化工艺的HTW气化炉(1)下游的气体的后处理的后处理布置(10),所述后处理布置具有可布置在所述流化床气化工艺下游和气体冷却器(3)上游的粒子分离单元(2;11),所述气体冷却器可用于所述气体的另一后处理,其中所述后处理布置包括中间冷却单元(12),所述中间冷却单元可布置在所述流化床气化工艺下游和所述粒子分离单元(11)上游,所述中间冷却单元具有用于气化蒸汽(B)的回路(B1),所述回路可联接到所述流化床气化工艺。此外,本发明涉及一种用于至少在流化床气化工艺下游的气体的后处理的方法以及中间冷却单元的用途。
搜索关键词: 用于 至少 流化床 气化 工艺 下游 气体 处理 布置 方法 以及 逻辑 单元 用途
【主权项】:
暂无信息
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