[发明专利]铜蚀刻液在审
| 申请号： | 201880045782.7 | 申请日： | 2018-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110997981A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 希代诚;渡口繁;熊谷博之;松原敏明;中村惟之 | 申请（专利权）人： | 美录德有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34;H05K3/18 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 高龙鑫 |
| 地址： | 日本国东*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够切实地抑制电化学腐蚀、浴管理容易且蚀刻速度优异的铜蚀刻液。本发明的铜蚀刻液是由碱性的水溶液构成的铜蚀刻液，其特征在于，含有1～70g/L的铜、换算成25％氨水时为10～500g/L的氨水及5～500g/L的铵盐，所述铵盐为选自由无机酸的铵盐、磺酸的铵盐、饱和脂肪酸的铵盐、芳香族羧酸的铵盐、羟基酸的铵盐及二羧酸的铵盐组成的群组中的1种或2种以上的铵盐。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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