[发明专利]在导电基材上形成功能材料层有效

专利信息
申请号: 201880047861.1 申请日: 2018-07-10
公开(公告)号: CN110997987B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: S·P·赞考斯基;P·M·威利肯 申请(专利权)人: IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/10;C25D11/12;C23F1/00;C25D1/00;C25D11/34;C25D9/06;H01M4/66;C25D3/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 王颖;蔡文清
地址: 比利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在导电基材上形成功能材料层。提供一种用于在导电基材上形成功能材料层的方法。该方法包括:在基材上沉积中间层,在中间层上沉积功能材料前体层,并且使功能材料前体层活化,从而在中间层上形成功能材料层。该方法可以涉及将至少部分阀金属层转变成包括多个间隔的(纳米)通道的模板,和/或在模板的(纳米)通道内形成多个间隔结构。该方法还可以涉及固态电池组电池和电池组的制造。
搜索关键词: 导电 基材 形成 功能 材料
【主权项】:
暂无信息
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