[发明专利]用于暗场成像的散射校正在审
| 申请号： | 201880048946.1 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN110998653A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;H-I·马克;A·亚罗申科;K·J·恩格尔;B·门瑟 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 图像处理系统和相关方法。所述系统包括输入接口(IN)，所述输入接口用于接收通过利用X射线成像装置(XI)对目标(OB)进行成像而获得的暗场图像数据。所述系统(IPS)校正器模块(CM)被配置为执行校正操作以针对康普顿散射校正所述暗场图像数据，从而获得经康普顿散射校正的图像数据。所述系统的输出接口(OUT)输出经如此进行的康普顿散射校正的图像数据。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 暗场 成像 散射 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
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