[发明专利]喷镀喷嘴以及等离子体喷镀装置在审
| 申请号： | 201880049104.8 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN110997968A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 吉田和弘;深尾伸次;东慧;谷川秀次;坊野匠 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;B05B7/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 海坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种喷镀喷嘴以及等离子体喷镀装置。喷镀喷嘴具备：喷嘴主体(41)，其沿着轴线(Ax)延伸，并且具有在从配置于轴线方向一侧的上游端(41A)朝向下游侧的方向上形成等离子体火焰(37)的主流路(48)；粉末导入端口(43)，其设置于喷嘴主体(41)中的比上游端(41A)靠下游侧的部分，从径向外侧向等离子体火焰(37)导入喷镀用粉末(36)；以及流体导入端口(45)，其设置于喷嘴主体(41)中的比粉末导入端口(43)的形成位置靠下游侧的位置，从喷嘴主体(41)的径向外侧向主流路(48)导入工作流体。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 以及 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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