[发明专利]去涂层窑炉的流体温度控制系统及方法在审
| 申请号： | 201880049712.9 | 申请日： | 2018-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN110892222A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | J.Y.孙;E.L.劳赫;A.C.西尔瓦 | 申请（专利权）人： | 诺维尔里斯公司 |
| 主分类号： | F27B7/38 | 分类号： | F27B7/38;F27D17/00;F27D19/00;F27D21/00;C22B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张雨 |
| 地址： | 美国乔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 去涂层系统的冷却系统可以包括窑炉喷雾器，其配置成将冷却剂选择性地注入到窑炉中以控制窑炉内的气体的温度。冷却系统还可以包括回流喷雾器，其配置成用冷却剂选择性地冷却从后燃器流到窑炉的气体。替代地或附加地，可以使用去涂层系统的热交换系统，其包括热交换器和蒸汽发生器。热交换器被配置为冷却从后燃器到窑炉的气体，并且蒸汽发生器被配置为冷却从后燃器排放并且不被引导到热交换器的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 涂层 流体 温度 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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