[发明专利]使用以位置为基础的属性的干扰减少有效
| 申请号： | 201880051308.5 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN111052178B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | B·布拉尔;J·黄;高理升 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/73 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 揭示提供例如包含一或多个金属线的半导体图像的图像中的干扰减少的方法及系统。潜在缺陷与两个垂直轴线的像素灰阶强度图相关。沿所述两个轴线确定所述潜在缺陷相对于例如金属线的图案的位置。所述潜在缺陷可分类为所关注缺陷或干扰事件。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 位置 基础 属性 干扰 减少 | ||
【主权项】：
暂无信息
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