[发明专利]膜形成基材的制造方法、膜形成基材及表面处理剂有效
| 申请号： | 201880051854.9 | 申请日： | 2018-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN111032235B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 西江健二;冈勇贵;市桥知子;藤井琢人 | 申请（专利权）人： | MEC株式会社 |
| 主分类号： | B05D3/10 | 分类号： | B05D3/10;B05D1/26;B05D7/14;C09D11/30;C23C22/26;C23C22/52;H05K3/06;H05K3/26 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本国兵库县尼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题为提供可充分改善树脂组合物的渗出及树脂组合物与金属基材表面的密合性的膜形成基材的制造方法等。本发明提供在金属基材表面形成有树脂组合物的膜的膜形成基材的制造方法等，所述膜形成基材的制造方法中具备：蚀刻步骤，以微蚀刻剂蚀刻金属基材表面；表面处理步骤，使表面处理剂接触经蚀刻的前述金属基材表面而以使表面相对于水的接触角成为50°以上150°以下的方式进行表面处理；及膜形成步骤，在经表面处理的金属基材表面以喷墨方式形成树脂组合物的膜。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 基材 制造 方法 表面 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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