[发明专利]脱模膜在审
| 申请号： | 201880052267.1 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111051060A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 辻内直树;中垣贵充 | 申请（专利权）人： | 东丽薄膜先端加工股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;B32B7/02;B32B7/023;B32B7/06;B32B27/36;B32B27/16;B32B33/00;B29C67/02;B29L7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的为提供脱模膜，其同时满足：能够适当地进行被转印膜的缺陷检查；脱模膜的识别性良好；耐溶剂性良好；以及加热后的剥离性良好。为了实现该目的的本发明的脱模膜具有以下的构成。即，脱模膜，其为在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜，脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且上述脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层，上述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 脱模 | ||
【主权项】：
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