[发明专利]无外部电压偏置的水溶液中的选择性无电电化学电原子层沉积有效
申请号: | 201880053047.0 | 申请日: | 2018-08-07 |
公开(公告)号: | CN111032911B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 安鲁达哈·乔伊;凯拉什·文卡特拉曼;耶兹迪·多尔迪 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C18/54 | 分类号: | C23C18/54;C23C18/52 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 樊英如;邱晓敏 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了一种进行无电电化学原子层沉积的方法,并且其包括:提供包括暴露的上金属层的衬底;将所述衬底暴露于第一前体溶液中以经由欠电位沉积在所述暴露的上金属层上产生牺牲金属单层,其中所述第一前体溶液是包含还原剂的水溶液;在形成所述牺牲金属单层之后,漂洗所述衬底;在漂洗所述衬底之后,将所述衬底暴露于第二前体溶液中,以用第一沉积层置换所述牺牲金属单层,以及在用所述第一沉积层置换所述牺牲金属单层之后,漂洗所述衬底。将所述衬底暴露于所述第一前体溶液和将所述衬底暴露于所述第二前体溶液是无电工艺。 | ||
搜索关键词: | 外部 电压 偏置 水溶液 中的 选择性 电化学 原子 沉积 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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