[发明专利]具有优异的耐磨性和韧性的硬膜

摘要

本发明的目的在于提供具有改善的耐磨性和韧性的硬膜，所述硬膜通过PVD法形成，并且包括第一硬层和第二硬层，其中：所述第一硬层的厚度为0.1至3.0μm，由Til‑aAlaN(0.3≤a≤0.7)制成，并具有单相结构；所述第二硬层的厚度为0.5至10μm，由Til‑a‑bAlaMebN(0.3≤a≤0.7，0≤b≤0.05；Me是选自V、Zr、Si、Nb、Cr、Mo、Hf、Ta和W中的一种或多种)制成；在XRD相位分析中，[200]峰的强度与[111]峰的强度的比率([200]/[111])为1.5以上，优先在[200]方向上生长；[200]峰位于42.7°至44.6°，并同时由三相构成；[111]峰位于37.0°至38.5°，并同时由三相构成；当涉及三相的这些峰中具有最大强度的峰为主峰且其余峰为副峰时，[200]面的主峰强度与副峰强度的比率(主峰/副峰)为2以上，[111]面的主峰强度与副峰强度的比率(主峰/副峰)为2以上。