[发明专利]通过断层反投影进行三维制造的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201880056309.9 申请日: 2018-08-23
公开(公告)号: CN111093994B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: D·洛特利亚;P·德洛;C·莫泽 申请(专利权)人: 洛桑联邦理工学院
主分类号: B29C64/10 分类号: B29C64/10;B33Y50/00;B29C64/386;H04N1/40
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅;李渤
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于制备三维物体的方法,其包括计算反投影的序列,所述反投影的序列描述待从所述物体的不同取向角度形成的三维物体,使用所述反投影限定光图案的序列,以及用每个所述光图案以各自相应的取向角度并根据限定的序列照射光响应材料,所述光响应材料能够在光照射时改变其材料相,从而在光响应介质内形成变化的三维分布,在物理上再现所述三维物体,从而创建所述三维物体。
搜索关键词: 通过 断层 投影 进行 三维 制造 方法 装置
【主权项】:
暂无信息
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