[发明专利]光学系统、量测装置及相关联的方法在审
| 申请号： | 201880056663.1 | 申请日： | 2018-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111066096A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | S·T·范德波斯特;S·M·B·鲍默;P·D·范福尔斯特;T·W·图克;F·兹杰普;H-K·尼恩海斯;J·M·A·范登埃厄伦比埃姆德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;G03F7/00;G03F7/20;G02B17/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述了一种光学系统(OS)，该光学系统(OS)用于将辐射束(B)聚焦在量测装置中的关注区域上。辐射束(B)包括在软X射线或极紫外光谱范围中的辐射。光学系统(OS)包括用于将辐射束聚焦在中间聚焦区域的第一级(S1)。光学系统(OS)包括用于将来自中间聚焦区域的辐射束聚焦到关注区域上的第二级(S2)。第一级和第二级均包括Kirkpatrick‑Baez反射器组合。至少一个反射器包括像差校正反射器。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 装置 相关 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880056663.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：遮挡卷帘设备
- 下一篇：一种网络接入方法及终端设备
