[发明专利]使用蚀刻剂和中和气体制备光纤预制件的方法和炉在审
申请号: | 201880056749.4 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN111094197A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | D·C·布克宾德;R·M·菲亚克;P·坦登 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03B37/012 | 分类号: | C03B37/012;C03B37/014 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 乐洪咏;项丹 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种制备光学预制件22的方法,包括以下步骤:将包含氧化硅的光学预制件22放置在炉10的腔内;将蚀刻剂气体42通入炉中,并从光学预制件22内限定的开放通道34中通过和/或从光学预制件22周围通过;将中和气体50通入炉腔内,该中和气体50被配置成中和蚀刻剂气体42。还公开了具有蚀刻剂系统38和中和气体系统46的炉。 | ||
搜索关键词: | 使用 蚀刻 中和 气体 制备 光纤 预制件 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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