[发明专利]使用蚀刻剂和中和气体制备光纤预制件的方法和炉在审

专利信息
申请号: 201880056749.4 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN111094197A 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: D·C·布克宾德;R·M·菲亚克;P·坦登 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: C03B37/012 分类号: C03B37/012;C03B37/014
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 乐洪咏;项丹
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种制备光学预制件22的方法,包括以下步骤:将包含氧化硅的光学预制件22放置在炉10的腔内;将蚀刻剂气体42通入炉中,并从光学预制件22内限定的开放通道34中通过和/或从光学预制件22周围通过;将中和气体50通入炉腔内,该中和气体50被配置成中和蚀刻剂气体42。还公开了具有蚀刻剂系统38和中和气体系统46的炉。
搜索关键词: 使用 蚀刻 中和 气体 制备 光纤 预制件 方法
【主权项】:
暂无信息
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