[发明专利]压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法有效
申请号: | 201880058516.8 | 申请日: | 2018-07-19 |
公开(公告)号: | CN111433578B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 金相模;朴俊昱;朴星河;宋英俊 | 申请(专利权)人: | 康宁公司 |
主分类号: | G01L1/14 | 分类号: | G01L1/14;G01L15/00;B08B11/04 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;吴启超 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法。压力场测绘设备包括支撑基板;布置在支撑基板上的多个压力传感器,每个压力传感器被配置为响应于施加到所述压力传感器的压力而输出信号;防水袋,围绕支撑基板;及分析器,配置为从多个压力传感器的每一个接收信号,并基于所接收的信号实时输出支撑基板上的压力图。通过使用压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法,可在清洁处理中没有工人之间的偏差的情况下进行客观和定量的测试,因此大大减少例如颗粒缺陷的产品缺陷。 | ||
搜索关键词: | 压力 测绘 设备 以及 使用 清洁 玻璃 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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