[发明专利]高频光学开关及其制造方法在审
| 申请号： | 201880059395.9 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN111133375A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | E·加巴里 | 申请（专利权）人： | 太赫兹集团有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/19 | 分类号： | G02F1/19;H04B10/25;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 蒋林清 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明描述可用于太赫数据通信速率的光学开关及调制器装置。所述装置包括：光学透射衬底，其经配置以使电磁辐射传播通过；及超材料布置，其光学地耦合到所述衬底。所述超材料布置包括光学地耦合到所述光学透射衬底的至少某个部分的至少一个超材料颗粒层及由放置在所述至少一个超材料层的至少某个部分上方的至少一种导电材料制成的至少一个纳米网层。所述至少一个纳米网层经配置以响应于施加到所述超材料布置的电磁或电信号而将电子释放到所述至少一个超材料层中，且所述至少一个超材料层经配置以在接收所述经释放电子之后从光学不透明状态变成光学透明状态，以由此至少部分地改变穿过所述衬底的电磁辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 高频 光学 开关 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太赫兹集团有限公司，未经太赫兹集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880059395.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：嵌段共聚物、树脂组合物、涂膜、树脂膜及其应用
- 下一篇：持久化妆品组合物
