[发明专利]对准互补衍射图案对的方法及相关联的量测方法和装置有效
| 申请号： | 201880059407.8 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111095114B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | N·盖佩恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种对准互补衍射图案对的方法，该互补衍射图案对包括第一互补衍射图案和第二互补衍射图案，该互补衍射图案对通过对由光刻过程形成的结构执行量测过程而获得。该方法包括：至少执行精细对准阶段，以对准互补衍射图案对。对准阶段包括：对检测器区域的至少一部分上的第一互补衍射图案的测量值进行内插；以及通过第二互补衍射图案的平移和旋转中的一者或两者，使第二互补衍射图案中的测量值与来自第一互补衍射图案的内插的对应内插值之间的残差最小化。还公开了一种使用对准方法来测量结构的感兴趣参数的方法及相关联的量测装置。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 互补 衍射 图案 方法 相关 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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