[发明专利]用于形成纳米层合光学涂层的系统在审
| 申请号： | 201880060192.1 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN112166208A | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | T·布卢克;W·T·布洛尼甘 | 申请（专利权）人： | 因特瓦克公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李隆涛 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供一种用于在基板上形成光学涂层的处理系统，其中光学涂层包括抗反射涂层和疏油涂层，系统包括：直线运输处理段，其配置成沿直线方向以单独且一次一个的方式处理和运输基板载具；定位在直线运输处理系统中的至少一个蒸发处理系统，蒸发处理系统配置用于形成疏油涂层；批处理段，其配置用于使基板载具一致地围绕轴线运输；定位在批处理段中的至少一个离子束辅助沉积处理室，离子束辅助沉积处理室配置用于沉积抗反射涂层的层；用于安装基板的多个基板载具；以及用于在直线运输处理段与批处理段之间转移基板载具而不使基板载具暴露于大气的器具。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 纳米 光学 涂层 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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