[发明专利]表面应力传感器、中空构造元件以及它们的制造方法有效
申请号: | 201880060942.5 | 申请日: | 2018-09-20 |
公开(公告)号: | CN111108357B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 村上贵宣;望月秀则;平岛大树;加藤静一;小松和磨 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社 |
主分类号: | G01L1/18 | 分类号: | G01L1/18;B81B3/00;B81C1/00;G01N5/02;H01L29/84 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供能够抑制测量精度的下降的、表面应力传感器和其制造方法。该表面应力传感器(1)具备:薄膜(22),其在被施加的表面应力的作用下挠曲;框架构件(24),从薄膜(22)的厚度方向观察时,该框架构件(24)与薄膜(22)空开间隙地包围薄膜(22);至少一对连结部(26),从薄膜(22)的厚度方向观察时,该一对连结部(26)配置于夹着薄膜(22)的位置,且将该薄膜(22)和框架构件(24)连结起来;挠性电阻(50),其设于连结部(26)中的至少一个连结部(26),该挠性电阻(50)的电阻值与在连结部(26)产生的挠曲相应地变化;以及支承基材(10),其与框架构件(24)相连接,且从薄膜(22)的厚度方向观察时与框架构件(24)重叠,在薄膜(22)与支承基材(10)之间设有空隙部(40)。 | ||
搜索关键词: | 表面 应力 传感器 中空 构造 元件 以及 它们 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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