[发明专利]在AEF区域内原位进行束膜稳定或去除的系统和方法在审
| 申请号： | 201880062832.2 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN111149187A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 陶天照;大卫·柯克伍德 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 刘新宇;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种离子注入系统，其具有配置为形成离子束的离子源以及具有AEF区域的角能量滤波器(AEF)。气体源通过膜与气体的反应而钝化和/或蚀刻留存于AEF上的膜。该气体可为氧化气体或含氟气体。气体源可在形成离子束的同时选择性将气体供应到AEF区域。加热AEF，以辅助气体钝化和/或蚀刻膜。热量可源自离子束和/或源自与AEF相关联的辅助加热器。歧管分配器可操作性耦接至气体源并配置为将气体供应到一个或多个AEF电极。 | ||
| 搜索关键词： | aef 区域内 原位 进行 稳定 去除 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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