[发明专利]光刻用组合物、图案形成方法和化合物在审
| 申请号： | 201880063602.8 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN111164511A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 工藤宏人;越后雅敏;佐藤隆 | 申请（专利权）人： | 学校法人关西大学;三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C07F11/00;G03F7/029;G03F7/038;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种光刻用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物。[L |
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| 搜索关键词： | 光刻 组合 图案 形成 方法 化合物 | ||
【主权项】：
暂无信息
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